應(yīng)用范圍:MSK-PSS-MC1010磁控濺射儀可在襯底基片上濺射一層薄膜,原理是由惰性工藝氣體產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象生成帶電離子,帶電離子經(jīng)過電場(chǎng)加速后轟擊固體靶材表面,使靶材表面原子和分子被轟擊飛濺出來,同時(shí)產(chǎn)生二次電子,再次撞擊氣體原子而形成更多的帶電離子,從靶材濺射出來的粒子在低壓氣氛中向硅片作渡越運(yùn)動(dòng),碰撞到襯底基片上并被基片吸附,最終凝聚在襯底形成需要的薄膜。
應(yīng)用范圍:MSK-PSE-EC1515-D共蒸六源鈣鈦礦真空鍍膜儀配備6組蒸發(fā)源,可蒸鍍切換最多6種有機(jī)材料,也可同時(shí)共蒸2種材料如:Cu、Ag、PbI2、CsBr等材料;設(shè)備可與手套箱對(duì)接方便在手套箱中操作,采用前滑動(dòng)開門結(jié)構(gòu)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。
應(yīng)用范圍: MSK-PSE-EC1515六源真空蒸鍍儀配備3組有機(jī)束源式蒸發(fā)源爐+3組舟式蒸發(fā)源,可蒸鍍切換最多6種有機(jī)材料如:Cu、Ag、C60、NPB、TPBi等材料;設(shè)備可與手套箱對(duì)接方便在手套箱中操作,采用前滑動(dòng)開門結(jié)構(gòu)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。
應(yīng)用范圍:PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機(jī),其加熱溫度可達(dá)150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片,為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠,改善表面潤濕性,清洗SEM&TEM,紫外對(duì)聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對(duì)材料無損傷的原子級(jí)別清洗手段,特別適合清除一些有機(jī)化合物,紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵?/p>
--小型等離子清洗機(jī) 應(yīng)用范圍:PCE-6小型等離子清洗機(jī)的等離子腔體為Ø160mm×190mm的石英腔體,采用的射頻電源功率3.0MHz(1%),輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機(jī)主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)(如親水和疏水性等),對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。